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| 美国纽约州投5亿美金研发碳化硅材料 |
| 来源：中国粉体技术网 更新时间：2014-07-24 09:52:34 浏览次数： |
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碳化硅由于其用途广泛被称为未来的半导体材料 纽约州州长安得烈∙库默于2014年7月15日宣布，纽约州将联合100多家私营企业组建一个碳化硅产业联盟，由通用电气公司(GE)牵头主导，开发新一代SiC材料和工艺。该联盟被称为纽约电力电子制造业联盟(NY-PEMC)，该合资公司在未来五年内将投资超过5亿美元。 企业将由位于奥尔巴尼的新合并的纽约州立大学纳米科学和工程学院(CNSE)/纽约州立大学技术学院(SUNYIT)进行管理。
通用电气公司将牵头利用位于CNSE纳米技术中心的碳化硅工艺线开发和生产低成本、高性能的碳化硅(SiC)晶片。 所有参与合作的公司将可以利用通用公司提供的世界最先进的6英寸SiC设备与基本工艺，他们可以进一步开发改进措施来实现碳化硅产业的大批量生产、以及提高成本效率和生产效率。在州立大学的研究人员也将参与到计划中。这一措施旨在利用国家纳米技术设施吸引研究者和私人公司建立一个纽约州的高科技产业集群。 “这一举措将为纽约州北部创造上千个新的就业机会，挖掘并利用我们所拥有的训练有素的员工和现有的高技术研究与发展中心，”库默说。“在获得各方的一致认同下，我们要推进纽约州在国际市场上的竞争力，使之成为开发和制造高科技材料的地方。今天我们所采取的这种投资和合作方式将利用未来的劳动力创造就业机会，提高在纽约州的长期投资。”
此项合作方式是纽约免税计划促成的，除了提供给纽约州立大学纳米科学和工程学院、用于建设NY-PEMC设施设备的纽约州政府拨款1.35亿美元外，还将吸引3.65亿美元的私人投资和知识技能，用于支持人才建设、设备和工艺开发，设备购置与安装，设施建设与材料采购。5年总投资将高达5亿美元。
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