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一种石墨烯薄膜的制备方法
来源:中国粉体技术网    更新时间:2016-02-13 09:47:08    浏览次数:
专利名称:一种石墨烯薄膜的制备方法
专利持有人:王聪;方小红;陈小源;蔡伟
所属行业:非金属矿加工
内容摘要:本发明提供一种石墨烯薄膜的制备方法,解决了现有生长方法无法在铜箔上生长多层石墨烯,实现多层石墨烯薄膜的大面积制备的问题。
信息描述
申请号CN201510778938.0
申请(专利权)人:中国科学院上海高等研究院;
发明人:王聪;方小红;陈小源;蔡伟;
       本发明提供一种石墨烯薄膜的制备方法。本发明的石墨烯的制备方法针对现有方法进行改进,通过在金属铜箔表面进行电化学刻蚀,形成多层石墨烯的成核核心,再用化学气相沉积法就可以在铜箔表面生长出2-3层的石墨烯薄膜。本发明可以发面积生长层数可控的多层石墨烯薄膜,对石墨烯的实用化具有重要意义。


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