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硅粉在中温微正压条件下氮化合成氮化硅粉体的方法
来源:    更新时间:2013-06-11 21:20:15    浏览次数:
专利名称:硅粉在中温微正压条件下氮化合成氮化硅粉体的方法
专利持有人:中国科学院理化技术研究所
所属行业:
内容摘要:发明人:李江涛,杨建辉,杨增朝,韩林森,王福,陈义祥申请人:中国科学院理化技术研究所申请号:CN201110296695.9 本发明属于非氧化物氮化硅陶瓷粉体的制备,涉及在中温微正压条件下,以温度场诱发硅粉燃烧方式合成氮化硅粉体的方法。本发明是以硅粉和...
信息描述
发明人:李江涛,杨建辉,杨增朝,韩林森,王福,陈义祥   
申请人:中国科学院理化技术研究所  
申请号:CN201110296695.9 
        本发明属于非氧化物氮化硅陶瓷粉体的制备,涉及在中温微正压条件下,以温度场诱发硅粉燃烧方式合成氮化硅粉体的方法。本发明是以硅粉和含氮化合物为原料,按不同的组分配比配制成反应混合料,经短时间研磨混合后,将混合料装于料舟内,并放入密闭的可加热耐压的反应炉中,经抽真空后充入一定压力的含氮非氧化性气体。通电预热混合料,温度升至500~900℃,通过局部加热或预埋点火块自燃方式,引发燃烧合成反应,合成后的氮化硅产物随炉冷却,经初碎后得到所述的氮化硅粉体。本发明结合了硅粉高温氮化工艺和硅粉燃烧合成氮化硅工艺的优点,降低了氮化反应温度和合成所需的压力,缩短了生产周期,大幅度降低了氮化硅粉体的生产成本。


http://www.fentijs.com/uploadfile/2013/0926/20130926091440935.pdf
 
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