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| 一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法 |
| 来源： 更新时间：2013-06-12 12:14:29 浏览次数： |
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专利名称：一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法
专利持有人：
所属行业：
内容摘要：发明人：徐志伟，陈磊，张瑶瑶，郭启微，陈光伟，王春红，钱晓明申请人：天津工业大学申请号：CN201210096806.6 一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法。其是将氧化石墨置于60Co的辐照源室内，然后在辐照剂量率为0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，... |
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发明人：徐志伟，陈磊，张瑶瑶，郭启微，陈光伟，王春红，钱晓明
申请人：天津工业大学
申请号：CN201210096806.6
一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法。其是将氧化石墨置于60Co的辐照源室内，然后在辐照剂量率为0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，辐照剂量为1×105Gy～2×106Gy的条件下对其进行γ射线辐照，辐照时间为16～3000小时，使氧化石墨的表面剥离而形成石墨烯纳米片。本发明方法是利用γ射线粒子能量高、穿透力强的特点，使空气中的氧气与氧化石墨的片层发生反应，从而大大提高了氧化石墨的层间距，显著降低了石墨烯纳米片的平均层数，并且所获得的石墨烯纳米片比表面增加，同时显著提高了超声处理后石墨烯纳米片中单片层的比例，因此可获得高品质功能化石墨烯材料。另外，本发明方法还具有操作过程简单、成本低廉，绿色环保等优点，并可实现工业化批量生产。
http://www.fentijs.com/uploadfile/2013/0923/20130923085642266.pdf
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