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| 一种用硫酸沉淀-氢气透气还原工艺制备纳米钨粉的方法 |
| 来源： 更新时间：2013-06-11 10:23:57 浏览次数： |
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专利名称：一种用硫酸沉淀-氢气透气还原工艺制备纳米钨粉的方法
专利持有人：北京科技大学
所属行业：
内容摘要：发明人：吴成义，郭志猛，林涛，李艳军，辛延君，王文琴，温芳，张稳稳申请人：北京科技大学申请号：CN201110355922.0 本发明属于金属材料中金属粉末制备技术领域，特别是提供了一种用硫酸沉淀—H2透气还原工艺制备纳米级钨粉的方法，适用于纳米级钨粉的... |
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发明人：吴成义，郭志猛，林涛，李艳军，辛延君，王文琴，温芳，张稳稳
申请人：北京科技大学
申请号：CN201110355922.0
本发明属于金属材料中金属粉末制备技术领域，特别是提供了一种用硫酸沉淀—H2透气还原工艺制备纳米级钨粉的方法，适用于纳米级钨粉的大规模工业化生产。其特征在于：采用一种钨酸铵稀溶液与稀硫酸水溶液在隔离剂和分散剂共同作用下进行沉淀反应，生成纳米颗粒状钨酸沉淀物，经高速离心分离，反复清洗，真空干燥，连续透气式H2还原炉还原，最终制备成平均粒径≤35nm的纳米钨粉。本发明优点为：成本低，生产效率高，设备简单，工序短，投资少，易实现连续化、自动化大规模生产。
http://www.fentijs.com/uploadfile/2013/0926/20130926094231861.pdf
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