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| ICP-AES 法测定金属硅中杂质元素 |
| 来源：冶金分析 更新时间：2013-06-14 13:51:16 浏览次数： |
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攀枝花钢铁研究院成勇等以HF挥发除去基体后,电感耦合等离子体光谱法(ICP-AES)对金属硅中Fe,Al,Ti,Ca,Cu,As,Pb等23个可能共存的杂质元素同时定量测定,并用差减法计算出基体元素硅的含量,只需一次测定即能实现金属硅样品的全分析。试验了共存元素间的干扰影响情况,优选了元素分析谱线和仪器工作参数,运用同步背景校正法、K系数法来消除共存元素间干扰和试液雾化进样的物理化学因素影响。方法简便快捷、易于操作掌握,测定回收率、精密度、检出限均取得了满意结果。
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